SEN日森 表面处理设备 PM2001N-3
SEN日森 表面处理设备 PM2001N-3
这是一款台式紫外线(UV)表面清洗与改质设备,主打 185nm+254nm 双波长 UV 臭氧清洗,常用于微电子、光学、新材料等行业的表面预处理。
核心原理
185nm 紫外线能将空气中的氧分子分解产生臭氧;臭氧与 254nm 紫外线协同作用,可快速氧化分解物体表面的纳米级有机污染物并挥发去除;同时对材料表面进行活化,提升润湿性与后续涂层、粘接的附着力。
关键参数与特点
照射规格:200×200mm 处理面积,工作台可旋转,保证均匀照射;适合实验室研发与小批量生产线;
操作便捷:台式设计,占地小,启动与参数调节简单;
应用场景
树脂、塑料表面活化,提升印刷、喷涂、点胶的附着力;
玻璃、金属、半导体基片的有机污染物清洗;
光刻胶的光灰化、电镀 / 镀膜前预处理;
医疗耗材、光学元件的洁净表面制备。
| 名 | 桌面表面清洁和改造装置 |
|---|---|
| 模型 | PM2001N-3 |
| 概述 | 利用波长为 185nm 和 254nm 的光能去除纳米级有机污染物。 |
| 目的 | - 改善树脂表面的润湿性 - 提高粘合剂、油漆和涂料对树脂材料的附着力 - 各种基材的预处理 - 金属和玻璃表面的清洁和改性 - 光刻胶的光灰化和电镀预处理 |
| 特征 | • 便于进行紫外线处理。 • 照射面积为 200 x 200 毫米,不仅可用于科研,也可作为小型生产设备。 • 旋转工作台可实现均匀照射。 |