SEN日森   表面处理设备  PM2001N-3

SEN日森   表面处理设备  PM2001N-3



这是一款台式紫外线(UV)表面清洗与改质设备,主打 185nm+254nm 双波长 UV 臭氧清洗,常用于微电子、光学、新材料等行业的表面预处理。

核心原理

185nm 紫外线能将空气中的氧分子分解产生臭氧;臭氧与 254nm 紫外线协同作用,可快速氧化分解物体表面的纳米级有机污染物并挥发去除;同时对材料表面进行活化,提升润湿性与后续涂层、粘接的附着力。

关键参数与特点

照射规格:200×200mm 处理面积,工作台可旋转,保证均匀照射;适合实验室研发与小批量生产线;

操作便捷:台式设计,占地小,启动与参数调节简单;

应用场景

树脂、塑料表面活化,提升印刷、喷涂、点胶的附着力;

玻璃、金属、半导体基片的有机污染物清洗;

光刻胶的光灰化、电镀 / 镀膜前预处理;

医疗耗材、光学元件的洁净表面制备。

桌面表面清洁和改造装置
模型PM2001N-3
概述利用波长为 185nm 和 254nm 的光能去除纳米级有机污染物。
目的- 改善树脂表面的润湿性
- 提高粘合剂、油漆和涂料对树脂材料的附着力
- 各种基材的预处理
- 金属和玻璃表面的清洁和改性
- 光刻胶的光灰化和电镀预处理
特征• 便于进行紫外线处理。
• 照射面积为 200 x 200 毫米,不仅可用于科研,也可作为小型生产设备。
• 旋转工作台可实现均匀照射。