OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3
规格式样
SF-3 | |
膜厚测量范围 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
重复精度 | 0.001% 以下 |
测量时间 | 10msec 以下 |
测量光源 | 半导体光源 |
测量口径 | φ27μm※2 |
WD | 3 mm ~ 200 mm |
测量时间 | 10msec 以下 |
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3规格式样SF-3膜厚测量范围0.1 μm ~ 1600 μm※1膜厚精度0.1% 以下重复精度0.001% 以下测量时间10msec 以下测量光源半导体光源测量口径φ27μm※2WD3 mm ~ 200 mm测量时间10msec 以下
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3
OTSUKA大塚电子 测量仪器 SF-3
规格式样
SF-3 | |
膜厚测量范围 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
重复精度 | 0.001% 以下 |
测量时间 | 10msec 以下 |
测量光源 | 半导体光源 |
测量口径 | φ27μm※2 |
WD | 3 mm ~ 200 mm |
测量时间 | 10msec 以下 |