HORIBA堀场 自动晶圆检测设备 OPM-300THORIBA堀场 自动晶圆检测设备 OPM-300T特色:多孔样品装载托盘(320320毫米)系统 自动插槽/位置移动,全轴伺服电机驱动,可变迎射角调整(胶片/玻璃光学滤镜:300T系列0-45,300R系列5-35)每次测量的自动参考检查功能(空…
HORIBA堀场 自动晶圆检测设备 OPM-300T
HORIBA堀场 自动晶圆检测设备 OPM-300T
多孔样品装载托盘(320×320毫米)系统 自动插槽/位置移动,全
轴伺服电机驱动,可变迎射角调整(胶片/玻璃光学滤镜:300T系列0-45°,300R系列5-35°)
每次测量的自动参考检查功能(空气用于T%测量,已知高低样品用于抗血率测量)
通过在 R% 结果图上叠加用户预设规格,支持产品质量判断
高速X-Y映射能力,确保样品区域的均匀性
OPM系列专用的“反向入射角校正”功能:校正板面变形引起的入射角误差,防止波长断定误差
不含样品行程时间的近似战术时间:每个测量点约2秒(OPM-300T),约1秒(OPM-300T-IRBF/OPM-300R)
| 模型 | OPM-300T | OPM-300T-IRBF | OPM-300R |
| H/W 将军 | 多采样加载系统 | ||
| 四轴电动级(XY,托盘,R) | 五轴电动级 (XY,托盘,R1,R2) | ||
| 自动可调入角 (AOI可变于300T、300T-IRBF:0-45°,300R:5-35°之间) | |||
| 可测量范围 | 350-1300 nm | 800-1100 nm | 380-800 nm |
| CCD像素色散 | 第一档:约0.43纳米 第二档(1100纳米~):约2.34纳米 | 约0.2纳米 | 约0.21纳米 |
| 光源 | 紫外线灯,钨卤素灯 | 钨卤素灯 | |
| 测量项目 | T(R)n%处的波长,n波长 下的T(R)%,T(R)平均/最大/最小波长,斜率,不同入射角的Δ波长 | ||
| 重复性 / 可重复性 | 与λ相关项目: 第1≤±0.3纳米,第2批(仅300吨)≤±1纳米 相关于T%项目:≤±0.4% | 与λ相关 项:1 ≤±0.3 nm 与R% 项相关 ≤±0.25% | |
| S/W 将军 | 、工程师、维护模式 | ||
| 按用户配方实现映射与多点测量功能 | |||
| 测量卡帕。 (1点/滤波器,1个角度) | 每月约216,000件(24小时×30天) | ||
| 作 环境 | 地点:无尘室(班级-10,000) | ||
| 15-35°C | |||
| < 85%相对湿度且无冷凝水 | |||
| 尺寸(WxDxH) | 1230 x 1515 x 1142 毫米 | 1550 x 1515 x 1142 毫米 | |
| 重量 | 约<400公斤 | 约<450公斤 | |
| 功率规格。 | 单相,220伏,15安培 | ||